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dc.creator.IDRAULINO, A. M. D.pt_BR
dc.creator.Latteshttp://lattes.cnpq.br/5858161812871081pt_BR
dc.contributor.advisor1SANTANA, Renato Alexandre Costa de.-
dc.contributor.advisor1IDSANTANA, R. A. C.pt_BR
dc.contributor.advisor1Latteshttp://lattes.cnpq.br/1438381290031148pt_BR
dc.contributor.referee1SANTANA, Renato Alexandre Costa de.-
dc.contributor.referee2CAMPOS, Ana Regina Nascimento.-
dc.contributor.referee3LINS, Mislene Pereira.-
dc.description.resumoA liga ternária de Co-W-P foi eletrodepositado e otimizado com relação aos parâmetros operacional e de banho (densidade de corrente e pH) em relação a sua resistência a corrosão. O desenvolvimento de banhos estáveis com níveis de pH relativamente baixos e a utilização de agentes complexantes para estabilizar é crucial para obtenção de filmes de boa qualidade e para aumentar o tempo de vida do banho eletrolítico. O efeito da densidade de corrente e do pH para se obter Co- W-P, resistente à corrosão tem sido estudada no presente trabalho. A metodologia de superfície de resposta foi usada como ferramenta de otimização. Os banhos utilizados para a obtenção desta liga sem agentes complexantes eram instáveis. Películas de boa qualidade da liga de Co-W-P foram obtidas utilizando um banho eletroquímico com o agente complexante. Os revestimentos obtidos mostraram adesão e bom brilho. A caracterizarão e morfologia da liga foi realizada utilizando um espectrômetro de fluorescência de raio-x por energia dispersiva (EDX) e microscopia eletrônica de varredura (MEV). As ótimas condições de operação para a obtenção deste filme foram densidade de corrente de 2mA/cm2 e principalmente 6 mA/cm2 e pH de 4,0. No entanto, foi observada a presença de micro nódulos e trincas na superfície da liga estudada.pt_BR
dc.publisher.countryBrasilpt_BR
dc.publisher.departmentCentro de Educação e Saúde - CESpt_BR
dc.publisher.initialsUFCGpt_BR
dc.subject.cnpqFísico-Químicapt_BR
dc.titleAvaliação da eletrodeposição da liga Co-W-P resistente a corrosão.pt_BR
dc.date.issued2015-
dc.description.abstractThe ternary alloy was electroplated Co-W-P and optimized operational and pH parameter with respect to its corrosion resistance. The stable development baths with relatively low pH levels and the use of complexing agents to stabilize is critical for obtaining good film quality and increase the lifetime of the electrolytic bath. The effect of current density and pH to obtain Co-W-P, corrosion has been studied in this work. The response surface methodology was used as optimization tool. The baths used to obtain this alloy free of complexing agents were unstable. Good quality films of alloy Co-W-P were obtained using an electrochemical bath with the complexing agent. The coatings showed good adhesion and gloss. The characterization and morphology of the alloy was performed using an x-ray fluorescence spectrometer energy dispersive (EDX) and scanning electron microscopy (SEM). The optimum operating conditions for obtaining this film were current density of 2mA / cm2 and especially 6 mA / cm2 and pH 4.0. However, it was observed the presence of micro nodules and cracks in the surface of the alloy studied.pt_BR
dc.identifier.urihttp://dspace.sti.ufcg.edu.br:8080/jspui/handle/riufcg/13852-
dc.date.accessioned2020-08-07T19:30:08Z-
dc.date.available2020-08-07-
dc.date.available2020-08-07T19:30:08Z-
dc.typeTrabalho de Conclusão de Cursopt_BR
dc.subjectLiga Co-W-Ppt_BR
dc.subjectEletrodeposiçãopt_BR
dc.subjectCorrosãopt_BR
dc.subjectMetodologia de superfície de respostapt_BR
dc.subjectMicroscopia eletrônica de varredura (MEV)pt_BR
dc.subjectCo-W-P Alloyspt_BR
dc.subjectElectrodepositionpt_BR
dc.subjectCorrosionpt_BR
dc.subjectResponse Surfacemethodologypt_BR
dc.subjectScanning electronmicroscopy (SEM)pt_BR
dc.subjectLiga Co-WP-
dc.subjectElectrodeposición-
dc.subjectCorrosión-
dc.subjectMetodología de superficie de respuesta-
dc.subjectMicroscopía electrónica de barrido (SEM)-
dc.rightsAcesso Abertopt_BR
dc.creatorRAULINO, Anamélia de Medeiros Dantas.-
dc.publisherUniversidade Federal de Campina Grandept_BR
dc.languageporpt_BR
dc.title.alternativeEvaluation of electroplating of corrosion-resistant Co-W-P alloy.pt_BR
dc.title.alternativeEvaluación de electrodeposición de aleación Co-W-P resistente a la corrosión.-
dc.identifier.citationRAULINO, Anamélia de Medeiros Dantas. Avaliação da eletrodeposição da liga Co-W-P resistente a corrosão. 2015. 43 fl. (Trabalho de Conclusão de Curso – Monografia), Curso de Licenciatura em Química, Centro de Educação e Saúde, Universidade Federal de Campina Grande, Cuité – Paraíba – Brasil, 2015.pt_BR
dc.description.resumenLa aleación ternaria Co-W-P fue galvanizada y optimizada con respecto a los parámetros de operación y baño (densidad de corriente y pH) en relación a su resistencia a la corrosión. El desarrollo de baños estables con niveles de pH relativamente bajos y el uso de agentes complejantes para estabilizarlos es crucial para obtener películas de buena calidad y aumentar la vida útil del baño electrolítico. En el presente trabajo se ha estudiado el efecto de la densidad de corriente y el pH para obtener Co-W-P resistente a la corrosión. Se utilizó la metodología de superficie de respuesta como herramienta de optimización. Los baños utilizados para obtener esta aleación sin agentes complejantes eran inestables. Se obtuvieron películas de aleación de Co-W-P de buena calidad utilizando un baño electroquímico con el agente complejante. Los recubrimientos obtenidos mostraron adherencia y buen brillo. La caracterización y morfología de la aleación se realizó utilizando un espectrómetro de fluorescencia de rayos X de dispersión de energía (EDX) y microscopía electrónica de barrido (SEM). Las condiciones óptimas de operación para la obtención de esta película fueron una densidad de corriente de 2mA/cm2 y principalmente de 6 mA/cm2 y un pH de 4.0. Sin embargo, se observó la presencia de micronódulos y grietas en la superficie de la aleación estudiada.-
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